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G-25X型或G-25XA型 光刻机

2019/10/22

一、主要用途:

本设备是我公司专门针对各大专院校及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机,它 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

 

二、 主要性能指标

1.  设备能真空吸附5" ×5"方形掩板,对版的厚度无特殊要求(13mm皆可)。

2.  设备能适用于Φ100mm圆形基片(或100×100mm方形基片),基片厚度≤5mm,当您的基片厚度≤1mm时,我公司为本机配置标准承片台(不另计费),当基片厚度>1mm时,设备需配置专用承片台(订货时用户须说明,费用另议)。

3.  照明:

光源:采用GCQ350Z型超高压水银直流汞灯。

照明范围:≤ф117mm

曝光面积:Φ100mm

Φ100mm范围内,曝光不均匀性≤±3%曝光强度:5mw/ cm²(此指标用紫外光源I线365nm测量)。

4.  本设备采用进口时间继电器控制气动快门,动作准确、可靠。

5.  本机为接触式曝光机,但可实现:

a.  硬接触曝光:用管道真空来获得高真空接触,真空≤-0.05MPa

b.  软接触曝光:接触压力可将真空降到-0.02MPa  -0.05MPa之间。

c.  微力接触曝光:小于软接触,真空≥-0.02MPa

6. 曝光分辩率:本设备硬接触曝光的分辨度可达1μm以上(用户的“版”、“片”精度必须符合国家规定,环境、温度、湿度、尘埃能得到严格控制,采用进口正性光刻胶,且匀胶厚度能得到严格控制,加之前后工艺先进)

7.对准:观察系统为两个单筒显微镜上装二个CCD摄像头,通过视屏线连接到显视屏上。

a.  单筒显微镜为1.6X10X连续变倍显微镜。

b.CCD摄像机靶面对角线尺寸为:1/3,(6mm;

c.采用19"液晶监视器,其数字放大倍率为19÷1/3=57倍;

d.观察系统放大倍数为:1.6×5791倍(最小倍数),10×57570倍(最大倍数)

1)对准台:(采用片动,版不动方式)

      XY调整:±5mm

2)θ调整:转角≤5°

    对准间隙(分离间隙)05mm任意可调。

    整个对准台相对于显微镜可作±15mm扫描运动。

  “接触、分离”20μm情况下,片相对于版的“漂移量”,可调到≤±0.5μm

8.设备所需能源:

主机电源: 220V±10%   50HZ 1KW

洁净空气≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。(设备自带无油型真空泵一台)

9. 尺寸和重量:

 尺寸:机体1300 mm(长)×720 mm(宽)×1500mm(高)。

重量:≤200Kg

10.G-25X型高精密单面光刻机的组成由主机(含机体和工作台),对准用单筒显微镜,高均匀性曝光头。

11.附件如下:

a.主机附件:(出厂时安装到机器上)

(1)5"□型掩版夹盘。

(2) 用于100×100mm基片的真空夹持承片台(或Φ4"圆形基片的真空夹持承片台)

b.显微镜组成

(1)单筒显微镜二个

(2)两个CCD

(3)视频连接线。

    (4)计算机和19"液晶监视器。